Máy phủ PVD là một công cụ công nghiệp tiên tiến được thiết kế để áp dụng lớp phủ màng mỏng trên các chất nền khác nhau thông qua công nghệ lắng đọng hơi vật lý. PVD là một quá trình dựa trên chân không bao gồm làm bay hơi một vật liệu rắn và ngưng tụ nó trên bề mặt mục tiêu, tạo ra lớp phủ đồng nhất, bền và hiệu suất cao. Phương pháp này được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp như điện tử, ô tô, hàng không vũ trụ và thiết bị y tế do khả năng tăng cường các đặc tính bề mặt như độ cứng, chống mài mòn và chống ăn mòn.

Máy thường bao gồm buồng chân không, bộ phận làm nóng, nguồn nguyên liệu mục tiêu và hệ thống điều khiển phức tạp. Trong quá trình vận hành, môi trường chân không ngăn ngừa ô nhiễm, đảm bảo độ tinh khiết và chất lượng của màng lắng đọng. Các kỹ thuật PVD phổ biến bao gồm phún xạ và bay hơi, mỗi kỹ thuật đều phù hợp cho các ứng dụng cụ thể. Ví dụ, phún xạ là phương pháp lý tưởng để tạo ra lớp phủ chính xác trên chất bán dẫn, trong khi phương pháp bay hơi thường được sử dụng để hoàn thiện quang học và trang trí.